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真空爐溫度場(chǎng)形成的特點(diǎn)

時(shí)間:2010-09-01點(diǎn)擊次數(shù):5854

    真空爐的發(fā)熱元件一般呈圓形布置。真空加熱相對(duì)普通爐來說,其傳熱方式只有輻射,沒有傳導(dǎo)和對(duì)流;非真空加熱時(shí)有傳導(dǎo)、對(duì)流和輻射三種方式,其中對(duì)流、傳導(dǎo)根據(jù)壓力的不同又與普通爐( 常規(guī)壓力) 同。

    壓力小于1 ×105Pa ( 壓力,普通爐的近似工作壓力) 時(shí),其對(duì)流、傳導(dǎo)作用小于普通爐壓力接近工作真空度( 2Pa) 時(shí),其對(duì)流、傳導(dǎo)作用基本不存在,工件升溫緩慢,特別是低于600 ℃ 以下加熱時(shí),加熱更為緩慢,工件溫度相對(duì)控溫?zé)犭娕嫉臏囟扔幸欢ǖ臏蟋F(xiàn)象。

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